VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸，样品台与溅射头之间的高度在30-80mm之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板，可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s之间可调，若想获得薄的薄膜，溅射时间可以设置短一点；若想获得厚的薄膜，溅射时间可以长一点。VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜，制膜面积可达到4英寸。设备外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。
产品型号 | VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪 | |||||||||||||||
主要特点 | 1、特别为SEM样品镀导电性薄膜设计。 2、体积小巧，操作简单，容易上手。 3、拥有小型磁控靶头，可以镀金银铂等金属。 | |||||||||||||||
技术参数 | 1、输入电源：220V AC 50/60Hz 2、功率：200W 3、输出电压：500 VDC 4、溅射电流：0-50 mA可调 5、溅射时间：0-120S可调 6、溅射腔体 1）采用石英腔体，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2）密封：采用不锈钢平法兰的O形密封圈 7、溅射头&样品台 l）溅射头可安装靶材直径为2英寸，厚度0.1 - 2.5mm 2）溅射时间1-120S可调 3）仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台，其与溅射头之间距离30-80mm可调。 4）可选购加热型样品台，其最高加热温度为500℃ 5）安装有一可手动操作的溅射挡板，可进行预溅射 6）最大可制膜的直径为:4英寸（仅供参考，详情请点击）
8、真空系统 l）安装有KF25真空接口 2）数字真空压力表（Pa） 3）此系统可通入气体运行 4）< 1.0E-2 Torr （采用机械泵） 5）< 1.0E-5 Torr（采用涡旋分子泵） 9、进气 l）设备上配1/4英寸进气口，方便连接气瓶 2）设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流 10、靶材 l）靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2）设备标配为铜靶 11、产品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm
净重：20 kg（不包括泵） | |||||||||||||||
可选 | 1、可在本公司选购各种靶材 对于溅射各种金属靶材，需要摸索最理想的溅射参数，下表是本公司实验所设置的参数，欢迎您带料来科晶实验室摸索工艺（仅供参考）
2、可在本公司选购各种真空泵
3、可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
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质量认证 | CE认证 | |||||||||||||||
质保期 | 一年保修，终身技术支持。 特别提示：1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 | |||||||||||||||
使用提示 | l、有时为了达到理想的薄膜厚度，可能需要多次溅射镀膜 2、在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 3、要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面 4、清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声，（2）异丙醇超声-去除油脂，（3）吹氮气干燥，（4）真空烘箱除去水分。 5、等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。 6、制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。 7、请使用>5N纯度氩气等离子体溅射 8、溅射镀膜机可以放入Ar或N2气体手套箱中溅射 9、由于能量低，该模型不适用于涂层的轻金属材料如Al，Mg，Zn，Ni。请考虑我们的磁控溅射镀膜机或热蒸发镀膜机。
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警告 | 注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。 气瓶上应安装减压阀（不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。 溅射头连接到高电压。 为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶头。 |
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